プラズマ半導体製造プロセスのシミュレーション

コスト効果に優れた高品質の半導体チップ製造装置の設計において、プラズマプロセスの理解とシミュレーションは非常に重要です。半導体製造事業にイノベーションをもたらす立役者とも言える存在です。

このウェビナーでは、身近にあるプラズマの例を交えながら、プラズマの基礎物理と分類について説明します。半導体製造に用いられるさまざまなプラズマプロセス (プラズマエッチングなど) を紹介するほか、Simcenter STAR-CCM+マルチフィジックスソフトウェアを使用して、ウェハチャンバーのプラズマプロセスをシミュレーションする様子をデモ形式でご覧いただきます。</p><p>このウェビナーに今すぐ登録して、今日の暮らしに欠かせない機器やシステムを支える高品質な半導体チップを効率的に製造するうえで非常に重要なプラズマプロセスのシミュレーションについて学びましょう。

高品質な半導体製造に必要とされるプラズマプロセス

「物質の忘れられた状態」と呼ばれることもあるプラズマは、この宇宙に最も豊富な物質状態であり、太陽、稲妻、オーロラ、さらにはオリオン星雲も自然界のプラズマ現象です。一方、プラズマ物理現象は、あらゆるところに存在するにもかかわらず、いまだ謎に包まれており、調査対象として注目を集め続けています。

プラズマプロセスは半導体製造工程として広く普及しています。砂からシリコンを作り出す工程は何百もの手順を踏まなくてはならず、多くはプラズマを使います。半導体や半導体装置に携わる企業は、チップの小型化、製造品質、信頼性要件、効率的な製造を求める市場の競争など、増え続ける課題と向き合っています。こうした課題に対処するには、製造装置の性能面、特にプラズマエッチング (ドライおよびウェット)、堆積法 (スパッタなど)、物理蒸着 (PVD)、プラズマ化学気相堆積法 (PECVD)、被覆法、プラズマ灰化法といったプラズマプロセスを理解し、予測性を深める必要があります。

プラズマ半導体製造プロセスにマルチフィジックスシミュレーションを適用する方法

このプレゼンテーションでは、プラズマエッチングに影響を与える要因を調査するために、Simcenter STAR-CCM+ソフトウェアを使用してウェハチャンバーの詳細モデルを記述する方法を中心に紹介します。シミュレーション指標の組み立てを通じて、物理ソルバーとプラズマ化学の概要、チャンバー材料の仕様、電磁コイルの性能などについて触れていきます。また、最適なエッチング率を達成するためにアルゴンイオン照射レベルをどう決定するのか、ウエア台の表面全体でイオン照射の均一性を高めるにはどうすれば良いかを考えます。

主な評価対象

• 電子エネルギー源と電子数の密度
• 電子温度
• ウェハ台表面のイオン濃度とイオン照射率

半導体プラズマ製造工程と製造装置の設計に従事している方々を対象としたこのオンデマンドウェビナーに登録すると、プラズマプロセスのモデリングにマルチフィジックスシミュレーションソフトウェアを適用する方法を学べます。